Alto vuoto e materiali

Il laboratorio alto vuoto e materiali sfrutta la tecnologia dell’ultra alto vuoto (pressioni dell’ordine del 10-8 mBar) a scopi di ricerca e sviluppo nel settore della deposizione di film sottili (materiali con spessori dell’ordine che varia tra i micrometri ai nanometri). Questo grado di vuoto permette l’uso di macchinari e tecniche atte alla creazione di materiali avanzati che hanno diverse applicazioni in campi come la microelettronica, il fotovoltaico o il biomedicale. Il laboratorio ultra alto vuoto e materiali del KETLAB ospita due sistemi di deposizione: Sputtering e PED.

Macchine presenti 

  • Sistema di deposizione Sputtering è capace di depositare film sottili di materiale metallico o ceramico, mono o multi-elementale e viene impiegata per la deposizione dei materiali su superfici che possono avere varie applicazioni nelle KETs.
  • Sistema di deposizione PED (Pulsed Electron Deposition) viene utilizzata per depositare film sottili di materiali multi-elementali (anche con stechiometria molto complessa) e permette di riprodurne esattamente sia la struttura sia la composizione su substrati di diversa natura (ceramiche, plastiche, vetro) a bassa temperatura (250 °C). La PED utilizza un cannone elettronico pulsato che sfrutta un meccanismo di ablazione del materiale permettendo una deposizione del film sottile a bassa temperatura su substrati di larga area.

 

Progetti