Alto vuoto e materiali

Il laboratorio alto vuoto e materiali sfrutta la tecnologia dell’ultra alto vuoto (pressioni dell’ordine del 10-8 mBar) a scopi di ricerca e sviluppo nel settore della deposizione di film sottili (materiali con spessori dell’ordine che varia tra i micrometri ai nanometri). Questo grado di vuoto permette l’uso di strumentazioni e tecniche atte alla creazione di materiali avanzati che hanno diverse applicazioni in campi come la microelettronica, il fotovoltaico o il biomedicale. Il laboratorio ultra alto vuoto e materiali del KETLAB ospita due sistemi di deposizione: Sputtering e PED.

Macchine presenti 

Il Sistema di deposizione Sputtering è in grado di depositare film sottili di materiale metallico o ceramico, mono o multi-elementale, questa tecnologia viene impiegata per la deposizione dei materiali su superfici che possono avere varie applicazioni nelle KETs.

Il Sistema di deposizione PED (Pulsed Electron Deposition) viene utilizzato per depositare film sottili di materiali multi-elementali (anche con stechiometria molto complessa) e permette di riprodurne esattamente sia la struttura che la composizione del target su substrati di diversa natura (ceramiche, plastiche, vetro) a bassa temperatura (250 °C). La PED utilizza un cannone elettronico pulsato che sfrutta il meccanismo di ablazione del materiale permettendo una deposizione del film sottile anche su substrati a bassa temperatura.

Strumentazione per analisi film sottili
Lo strumento, sfruttando una sorgente UV-IR con un range di lunghezza d'onda tra 190 e i 1100 nm, è in grado di misurare differenze di spessore e l'indice di rifrazione del materiale analizzato. Viene utilizzato per la caratterizzazione dei materiali, nello specifico, la misurazione degli spessori dei film sottili che variano tra 1 nm e 40 µm circa.

Progetti 

PED4PV

CIGS THIN FILM