Alto vuoto e materiali

Il laboratorio alto vuoto e materiali sfrutta la tecnologia dell’ultra alto vuoto (pressioni dell’ordine del 10-8 mBar) a scopi di ricerca e sviluppo nel settore della deposizione di film sottili (materiali con spessori dell’ordine che varia tra i micrometri ai nanometri). Questo grado di vuoto permette l’uso di strumentazioni e tecniche atte alla creazione di materiali avanzati che hanno diverse applicazioni in campi come la microelettronica, il fotovoltaico o il biomedicale. Il laboratorio ultra alto vuoto e materiali del KETLAB ospita due sistemi di deposizione: Sputtering e PED.

Macchine presenti 

  • Il Sistema di deposizione Sputtering è in grado di depositare film sottili di materiale metallico o ceramico, mono o multi-elementale, questa tecnologia viene impiegata per la deposizione dei materiali su superfici che possono avere varie applicazioni nelle KETs.

 

  • Il Sistema di deposizione PED (Pulsed Electron Deposition) viene utilizzato per depositare film sottili di materiali multi-elementali (anche con stechiometria molto complessa) e permette di riprodurne esattamente sia la struttura che la composizione del target su substrati di diversa natura (ceramiche, plastiche, vetro) a bassa temperatura (250 °C). La PED utilizza un cannone elettronico pulsato che sfrutta il meccanismo di ablazione del materiale permettendo una deposizione del film sottile anche su substrati a bassa temperatura.

  • Strumentazione per analisi film sottili
    Lo strumento, sfruttando una sorgente UV-IR con un range di lunghezza d'onda tra 190 e i 1100 nm, è in grado di misurare differenze di spessore e l'indice di rifrazione del materiale analizzato. Viene utilizzato per la caratterizzazione dei materiali, nello specifico, la misurazione degli spessori dei film sottili che variano tra 1 nm e 40 µm circa.

Progetti